硅材料国家重点实验室关于举办“2008硅基光电子材料及器件会议”的通知

 

由浙江大学硅材料国家重点实验室组织、承办的“2008硅基光电子材料及器件会议”将于2008年6月12日—15日在杭州花港海航度假酒店召开。

随着信息产业的发展，信息数据将海量增加，对信息计算、传输等技术在今后的发展也提出了更高的要求和挑战。其解决途径之一就是将现有成熟的微电子技术和光电子技术结合，实现硅基光电集成，这将成为信息产业发展的重要方向之一。

本届会议将延续前三届硅基光电子材料及器件会议的精神，以“硅基光电子材料及器件”主题，研讨硅基光电子发光材料的制备和提高发光效率的途径，硅基光调制、光传播、光开关、光探测器等材料和器件制备理论和技术，以及硅基光电子的基础理论研究等等。大会邀请了来自中国各知名大学、研究所的50余位科学家和研究生，互相交流各自在硅基光电子材料与器件方面的研究成果，展示我国在这一领域的新进展和新成就，探讨急需解决的问题和将来的发展方向。其主要内容包括硅基发光材料的能带工程、缺陷工程，硅基电致发光效率的提高以及硅基电泵激光的实现，硅基微纳尺度下光的传输与控制，硅基发光激光调制，器件集成以及光互连等。

热忱欢迎从事硅基光电子及其相关研究的科技工作者踊跃参加会议!

会议日程安排：

6月12日　代表报到　（花港海航度假酒店）

6月13-15日　学术研讨会（花港海航度假酒店）

会议具体日程见附件:    附件