“第三届中德硅材料双边研讨会”通知

发布者:系统管理员审核:fd 作者:fd终审:发布时间:2008-06-05浏览次数:4072

硅材料国家重点实验室关于举办“第三届中德硅材料双边研讨会”的通知
  由中德科学中心资助、浙江大学硅材料国家重点实验室和德国IHP共同组织、浙江大学硅材料国家重点实验室承办的“第三届中德硅材料双边研讨会将于2008年6月9日—14日在杭州花港海航度假酒店召开。
本届会议将延续前两届中德硅材料研讨会的精神,以“硅时代:硅在微电子、光电子和太阳能的应用”主题,研讨硅材料的生长、制备、表征、器件和应用。大会邀请了来自德国和中国各知名大学、研究所的27位科学家,互相交流各自在硅材料领域的研究成果,共同探讨国际、国内硅材料领域的研究现状和发展趋势,讨论研究中的困难和关键问题,探寻合作研究的可能和方式,实现在硅材料研究不同领域的交叉研究。
会议日程安排:
  6月9日 代表报到 (花港海航度假酒店)
  6月10-14日  学术研讨会(花港海航度假酒店)
会议具体日程见附件(请下载保存后打开阅读)
2008.6.5.